一、产品介绍

高端科研与工业精密高压供电分为闭环定点调压、开环比例随动调压两类主流方案，二者均可实现电压调节，因调控逻辑不同，适配工况各有侧重、互为补充。金升阳HO1系列闭环调压模块，可通过电位器或外置0-5V信号人工设定目标电压，设定后输出锁定、抗扰性优异，适配固定工艺稳态场景。

针对半导体、谱、电泳、激光等动态调压场景，市面传统开环高压模块普遍存在功率不足、启动门槛高、线性度差、功耗偏高、稳定性弱等问题，且行业长期缺失标准化12W级高性能方案。为此，金升阳全新推出HO3系列开环比例高压产品，与HO1工况互补。产品依托自研双驱动偏置专利技术完成性能升级，针对性优化启动性能、全域调压精度、空载功耗、响应速度等核心参数，打造适配多领域工况的12W级高性能比例调压高压供电方案。

二、HO3 vs HO1：同系高压模块，定位与应用方式精准区分

三、六大核心性能突破

HO3系列依托自研专利架构优化和多项自研专利技术，在满载功率、低压启动、线性调压精度、空载功耗、动态响应、电磁兼容六大核心维度实现体系化升级，综合性能达到行业同级顶尖水准。各项性能优化精准对标传统方案痛点，切实提升了设备集成、工艺调试、长期运行等全场景下的用户价值。

①功率性能升级，12W满载输出适配高负载工况

市面主流同架构的开环高压模块满载输出功率最大为10W，金升阳HO3系列通过优化内部功率拓扑结构，将单模块稳定满载输出功率提升至12W。在维持74.6*38.1*26.0mm紧凑机身尺寸不变的前提下，负载驱动能力显著提升，可充分满足质谱离子源激发、半导体静电卡盘大功率驱动等中高负载运行需求，单模块即可适配绝大多数工业、科研设备常规负载工况。

②极限低压启动，0.7V启机拓宽全域调压范围

通过优化专利偏置启动电路，HO3系列实现0.7V行业超低输入启动电压，无限贴近器件导通物理阈值，相较于传统开环电源1.5V起步启动电压，大幅下放低压调控区间，搭配0.7V~15V超宽标准输入电压范围，可实现高压输出大范围平稳调节，低压区间调控顺滑无卡顿，充分满足设备多档位、多工况下的精细化参数调试需求。

③专利动态补偿加持，实现开环架构高线性调压精度

普通无补偿开环高压电源，在全输入电压区间内升压比例波动幅度较大，调控过程中电压输出易出现波动偏差。金升阳HO3系列内置自研升压比动态补偿电路，无需增设闭环反馈结构，即可将0.7V~15V全输入区间升压比偏差严格控制在±4%以内，远超传统产品±10%的偏差水平，达成趋近闭环稳压电源的线性调控水准。

④低空载功耗设计，长效运行温控表现更优异

HO3系列优化内部损耗元器件布局与电路损耗结构，实测产品空载输入典型电流仅136mA；产品满载能量转换最高效率可达80.92%。相较于市面同级产品偏高的空载运行电流，HO3显著降低设备待机运行能耗，减少电源自身工作发热，优化整机内部散热环境，从而进一步延长整套供电系统的长效运行使用寿命。

⑤极速动态响应，高低载工况电压建立更平稳

针对动态调压工况的快速响应需求，HO3系列通过优化驱动电路时序逻辑，实现高效电压建立响应。产品空载电压建立时间仅20ms，满载电压建立时间为120ms，动态响应速率与工况切换平稳性优于传统开环产品。在设备参数调节、负载工况动态切换过程中，可快速响应指令电压，无滞后、无超调，保障高压输出动态一致性，高度适配激光、质谱等需高速动态调压的精密设备场景。

⑥一体化屏蔽结构加持，原生电磁干扰控制表现出色

HO3系列产品研发聚焦比例调压、高功率、快响应核心使用需求，未额外增设外置滤波电路。依托产品内部电路布局优化搭配全金属六面屏蔽外壳设计，从结构层面抑制电磁与射频干扰外泄，产品原生输出纹波噪声低至0.25%Vo，优于多数同架构同类产品。同时产品完整通过CISPR32/EN55032 CLASS B电磁兼容认证，顺利通过静电放电、辐射抗扰度等多项可靠性测试，可稳定适配各类电磁环境复杂的工业现场与实验室工况。

四、产品特点

● 输出电压跟随输入电压线性比例调节

● 输入电压范围：0.7~15VDC/0.7~12VDC

● 最大双路输出0~±6kVDC，单路输出0~12kVDC

● 产品工作效率最高可达78%

● 输出电压精度：±3%

● 输出纹波电压：0.3%HV

● 金属外壳六面屏蔽封装，极低的电磁/射频干扰

● 输出电压建立时间：空载 20ms，满载120ms

● 输出短路保护

● 输入输出隔离耐压：4000VDC

● 工作温度范围：-10℃ to +71℃

● EMI 满足 CISPR32/EN55032 CLASS B

● 内部元器件全贴片化工艺设计

● 注：详细特点和应用参见官网手册

五、产品应用

HO3系列高压电源模块，凭借双极性输出、低纹波、高隔离低干扰的产品特性，可精准匹配多领域高压精密比例调压供电需求，核心应用场景如下：

● 质谱分析领域：为离子源、质量分析组件提供连续线性可调高压，适配多模式检测实验参数灵活调节；

● 半导体工业领域：晶圆制程静电卡盘供电、芯片生产栅极偏置稳定供电，支持正负双路高压输出；

● 生命科学领域：实验室电泳设备高压驱动、各类精密科研实验仪器稳定供电；

● 通用工业领域：高压电容匀速充电、工业电场发生装置、脉冲点火模组配套供电；

● 真空科研领域：离子泵持续供电、小型粒子探测设备高压供电使用。

案例一：半导体工业：晶圆制程静电卡盘供电

半导体晶圆静电吸附设备，依托专用高压供电单元，通过向静电卡盘输出隔离型可调正负高压，构建可控静电吸附电场，稳定产生静电夹持力，实现真空工况下晶圆可靠固定、贴合与平稳传输，保障制程过程中晶圆稳定性与作业良率。

案例二：质谱分析设备：离子源核心供电

质谱仪离子源作为样品电离与离子加速的核心单元，依托HO3系列高压供电模块，为离子源推斥极、聚焦透镜组件提供连续线性可调高压，构建稳定可控的加速与聚焦电场，驱动样品离子完成电离、偏转与聚焦过程，保障离子束传输效率与稳定性，为后续质量分析环节提供纯净、定向的离子流，支撑设备实现精准定性与定量检测。